АвтоАвтоматизацияАрхитектураАстрономияАудитБиологияБухгалтерияВоенное делоГенетикаГеографияГеологияГосударствоДомДругоеЖурналистика и СМИИзобретательствоИностранные языкиИнформатикаИскусствоИсторияКомпьютерыКулинарияКультураЛексикологияЛитератураЛогикаМаркетингМатематикаМашиностроениеМедицинаМенеджментМеталлы и СваркаМеханикаМузыкаНаселениеОбразованиеОхрана безопасности жизниОхрана ТрудаПедагогикаПолитикаПравоПриборостроениеПрограммированиеПроизводствоПромышленностьПсихологияРадиоРегилияСвязьСоциологияСпортСтандартизацияСтроительствоТехнологииТорговляТуризмФизикаФизиологияФилософияФинансыХимияХозяйствоЦеннообразованиеЧерчениеЭкологияЭконометрикаЭкономикаЭлектроникаЮриспунденкция

Операция фотолитографии

Читайте также:
  1. Больному показана срочная операция: экстирпация желудка.
  2. БОЛЬШАЯ ОПЕРАЦИЯ
  3. Висло-Одерская операция, Восточно-Прусская операция (1945).
  4. Висло-Одерская операция.
  5. Департаментизация и кооперация
  6. Интерпретация - общенаучный метод и базовая операция социально-гуманитарного познания
  7. Клеточная кооперация в иммунном ответе
  8. Когда и как проводилась операция по освобождению Правобережья Украины, а также Крыма?
  9. Консунь – шевченковская операция и операция Багратион 1944 года.
  10. Кооперация
  11. Кооперация в оптовой торговле
  12. Кооперация иммунокомпетентных клеток

Три стадии:

- Экспонирование фотослоя через фотошаблон и образование скрытого изображения.

- Проявление и задубливание рисунка, формирование защитной фотомаски;

- Травление поверхностного слоя пластин на не защищенных участках.

Это перенос рисунка с фотошаблона в поверхностный слой шаблона пластины.

Различают позитивную и негативную:

 

 

 
 

 

 


А)

 

Б)

 
 

 

 


В)

 
 

 

 


1-лучи ультрафиолетового облучения

2-фотошаблон

3-фоторезист

4-поверхностный слой пластины

5-платина.

I –позитивная, II-негативная

II. Под воздействием УФ фоторезистора переходит в нерастворимое состояние и созданные послем, проявления защищенных участков соответствуют прозрачным участком фотошаблона. Освещенные участки изменяют свойства так, что могут быть удалены с помощью растворов проявителей, а не засвеченные сохраняют рисунок фотошаблона.

 

А) после экспонирования

Б) после проявления фотомаски

В) после вытравления поверхностного слоя пластины и удаление фотомаски.

 


1 | 2 | 3 | 4 | 5 | 6 | 7 | 8 | 9 | 10 | 11 | 12 | 13 | 14 | 15 | 16 | 17 | 18 | 19 | 20 | 21 | 22 | 23 | 24 | 25 | 26 | 27 | 28 | 29 | 30 | 31 |

Поиск по сайту:

Все материалы представленные на сайте исключительно с целью ознакомления читателями и не преследуют коммерческих целей или нарушение авторских прав. Студалл.Орг (0.002 сек.)